Masca Nutritiva pentru Par Foarte Uscat si Deteriorat cu Unt de Murumuru Bio 250ml

74,00lei

Masca Nutritivă pentru Păr Foarte Uscat și Deteriorat cu Unt de Murumuru Bio de la NOAH oferă hidratare intensă și reparare pentru părul deteriorat. Ideală pentru părul uscat, lasă-l moale și strălucitor.

Cumpără acum

🔒 Vei fi redirecționat în siguranță la partenerul nostru

Description

Masca Nutritiva pentru Par Foarte Uscat si Deteriorat cu Unt de Murumuru Bio 250ml

Prezentare generală

Masca Nutritivă pentru Păr Foarte Uscat și Deteriorat cu Unt de Murumuru Bio de la NOAH este soluția ideală pentru părul care necesită o hidratare profundă și o revitalizare eficientă. Această mască special formulată ajută la repararea părului deteriorat, lăsându-l moale și strălucitor.

Caracteristici și specificații

  • Brand: NOAH
  • Volum: 250 ml
  • Tip de păr: foarte uscat și deteriorat
  • Ingredient principal: Unt de Murumuru Bio
  • Disponibilitate: disponibil la comanda

Beneficii

Utilizarea regulată a acestei măști nutritive oferă multiple beneficii:

  • Hidratare intensă pentru părul uscat.
  • Repararea firelor de păr deteriorate.
  • Îmbunătățirea elasticității și a strălucirii părului.
  • Protecție împotriva factorilor externi dăunători.

Cum să folosești

Aplică o cantitate adecvată de mască pe părul umed, după șamponare. Distribuie uniform pe lungimi și vârfuri, evitând rădăcinile. Lasă să acționeze timp de 5-10 minute, apoi clătește bine cu apă călduță. Pentru rezultate optime, folosește-o de 1-2 ori pe săptămână.

Întrebări frecvente

  • Este această mască potrivită pentru toate tipurile de păr? Această mască este special formulată pentru părul foarte uscat și deteriorat.
  • Cât de des pot folosi această mască? Se recomandă utilizarea de 1-2 ori pe săptămână.
  • Poate fi folosită de persoanele cu păr vopsit? Da, este sigură pentru părul vopsit.

Reviews

There are no reviews yet.

Be the first to review “Masca Nutritiva pentru Par Foarte Uscat si Deteriorat cu Unt de Murumuru Bio 250ml”

Your email address will not be published. Required fields are marked *